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立享優(yōu)惠
熱場/爐膛:陶瓷纖維爐膛
加熱元件:高純硅鉬棒
最高溫度:1800℃
工作溫度:1700℃
真空度:高真空
可用氣氛:惰性氣氛(N2、CO2、Ar2等),危險氣體(H2)
行業(yè)應用:氧化亞硅升華
實驗室氧化亞硅升華爐適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料在科研所、高校等場所的小批量實驗,所以也叫做實驗室氧化亞硅升華爐;
采用高真空系統(tǒng)、升華系統(tǒng)、最后的沉積系統(tǒng)(氣相沉積)材料自動研磨刮料,爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。
氧化亞硅升華爐
氧化亞硅升華爐作為一款專為特定材料處理設(shè)計的精密設(shè)備,其獨特之處體現(xiàn)在多個方面,尤其適合高校、科研機構(gòu)及實驗室等環(huán)境使用,展現(xiàn)了極高的性價比優(yōu)勢。
小批量處理能力強:
該設(shè)備顯著的特點之一是單次裝料量適中偏小,這一設(shè)計初衷正是為了滿足科研實驗對于靈活性和精確性的需求。無論是進行材料性能的基礎(chǔ)研究,還是新型材料的探索性實驗,氧化亞硅升華爐都能以最小的物料投入,實現(xiàn)最大化的科研價值,助力科研工作者快速迭代實驗方案,加速科研進程。
全封閉自動化操作:
設(shè)備采用全封閉結(jié)構(gòu)設(shè)計,結(jié)合先進的自動化技術(shù),構(gòu)建了一個無塵、無氧、高度穩(wěn)定的作業(yè)環(huán)境。這一設(shè)計不僅極大地減少了外界因素對實驗過程的干擾,確保了實驗結(jié)果的準確性和可重復性,同時也為操作人員提供了安全的作業(yè)空間,有效避免了有害物質(zhì)的直接接觸和泄露風險,實現(xiàn)了生產(chǎn)效率與人員安全的雙重保障。
真空穩(wěn)定運行:
氧化亞硅升華爐能夠在真空度下穩(wěn)定工作,這是其又一核心優(yōu)勢。真空環(huán)境能夠有效隔絕空氣中的氧氣、水蒸氣等雜質(zhì),避免它們在高溫下與材料發(fā)生反應,從而保證了材料在升華過程中的純度和質(zhì)量。同時,真空條件還有助于提高熱傳導效率,加速升華過程,進一步提升了設(shè)備的生產(chǎn)效率和產(chǎn)品品質(zhì)。
綜上所述,氧化亞硅升華爐以其小批量處理能力、全封閉自動化操作以及真空穩(wěn)定運行等特性,成為了科研領(lǐng)域不可或缺的重要工具,為材料科學的發(fā)展注入了新的活力。
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